耦合测试设备核心技术突破，引领光电子制造智能化升级

目前光电子产业的高质量发展离不开核心装备的技术创新耦合测试设备作为光电子制造的关键装备其技术水平直接决定产业的发展高度。近年来国内企业持续加大研发投入在耦合测试设备的核心技术领域实现多项突破从精度控制、自动化水平到软件算法均达到国际先进水平引领光电子制造向智能化、高效化升级。精度控制技术是耦合测试设备的核心也是国产设备突破的重点领域。传统耦合设备精度较低难以满足高端光器件的生产需求当前来勒光电耦合测试设备已实现精度的跨越式提升。无论是全自动双透镜的±3μm视觉识别精度、±1μm光谱共焦测高精度还是全自动双FA的双端同步对准精度能够精准解决硅光芯片模场小、耦合公差严苛的行业痛点为高端光器件的生产提供了可靠保障。自动化与智能化技术的融合进一步提升了耦合测试设备的竞争力。来勒光电耦合测试设备已实现全流程自动化作业从自动化上料、自动对准、自动点胶到UV固化、性能检测无需人工干预有效降低了人工操作误差提升了生产一致性。来勒光电全自动双透镜耦合设备的双透镜联调算法能够实时优化耦合参数确保耦合值最优全自动双FA耦合系统的同步耦合算法实现了TX端与RX端的协同作业提升了耦合效率与一致性。此外设备的模块化设计与柔性生产能力可根据下游产业的需求变化快速调整设备配置适配多种材料、多种场景的耦合需求实现“一机多用”助力企业提升生产灵活性。